学会等発表 - 藤本　敏行

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  1. Preparation of (Ba, Sr)TiO3 Films Prepared by Liquid Chemical Vapor Deposition Method

    K. Okuyama, Y. Itoh, T. Fujimoto, T. Murakami, and F. G. Shi，The First Joint China /Japan Chemical Engineering Symposium，Proceedings of The First Joint China /Japan Chemical Engineering Symposium，2000年09月，Beijing，中華人民共和国

  2. PECVDプロセスにおけるダスト粒子の発生と薄膜の形態へおよぼす影響

    藤本敏行・藤重陽介・奥山喜久夫・島田学・足立元明, 松井功，エアロゾル科学技術研究討論会，日本エアロゾル学会，第17回エアロゾル科学・技術研究討論会要旨集，2000年08月，広島県・広島県東広島市

  3. エアロゾル法による反応機構解析を用いたAPCVD 膜のシミュレーション

    足立元明・伊藤佳史・奥山喜久夫・藤本敏行，エアロゾル科学技術研究討論会，日本エアロゾル学会，第17回エアロゾル科学・技術研究討論会要旨集，2000年08月，広島県・広島県東広島市

  4. 気相プロセスによるチタニア超微粒子生成に及ぼす化学反応速度の影響

    中曽浩一, 伊藤佳史, 福本佳一, 藤本敏行, 島田学, 奥山喜久夫，エアロゾル科学技術研究討論会，日本エアロゾル学会，第17回エアロゾル科学・技術研究討論会要旨集，2000年08月，広島県・広島県東広島市

  5. PECVDプロセスにおけるダスト粒子の計測と薄膜の形態へ与える影響の評価

    藤本敏行・藤重陽介・奥山喜久夫・島田学・足立元明・松井功，化学工学会第６５年会，化学工学会，2000年03月，東京都・東京都

  6. Evaluation of ion and particle interaction in CVD Process

    K. Okuyama, M. Shimada, and T. Fujimoto，Symposium of Dry Process，Proceedings of Symposium of Dry Process，(頁 245)，1999年11月，Tokyo，日本国

  7. PECVDプロセスで発生するパーティクルの計測と評価

    藤本敏行・山崎泰三・島田学・奥山喜久夫・松井功・足立元明，粉体工学会１９９９年度秋季研究発表会，粉体工学会，1999年11月，東京都・東京都

  8. Measurement of Spatial Distribution of Submicron Particles by Two-Color Polarization-Sensitive Laser Light Scattering Method

    M. Shimada, K. Okuyama, T. Fujimoto, and Y. Fujishige，Vapor Phase Synthesis of Materials III (An Engineering Foundation Conference)，Proceeding of Vapor Phase Synthesis of Materials III，1999年07月，Porvoo，フィンランド共和国

  9. Motion Control of Ionized Intermediates in TEOS/O3-APCVD Reactor

    M. Adachi, T.Fujimoto, and K.Okuyama，1st Asia Aerosol Conference，Proceedings of 1st Asia Aerosol Conference，(頁 219-220)，1999年07月，Nagaoya，日本国

  10. TEOS/O2-PECVDプロセスにおけるパーティクルの発生とその評価

    藤本敏行・奥山喜久夫・島田学・足立元明・松井功，化学工学会第３２回秋季大会，化学工学会，1999年07月，石川県・石川県金沢市

  11. イオン化CVD法によるTEOS/O3-APCVDプロセスでの微粒子発生の制御

    藤本敏行・奥山喜久夫・伊藤佳史・足立元明，化学工学会徳島大会，化学工学会，1999年07月，徳島県・徳島市

  12. 2波長レーザー光散乱法を用いた浮遊微粒子の計測とCVDプロセスへの応用

    島田学・奥山喜久夫・藤本敏行・宮崎一知・北尾智，化学工学会第６４年会，化学工学会，1999年03月，愛知県・名古屋市

  13. LSCVD法によるBST薄膜の主要成膜経路と反応速度の評価

    藤本敏行・山田哲・村上武司・奥山喜久夫，化学工学会第６４年会，化学工学会，1999年03月，愛知県・名古屋市

  14. TEOS蒸気のイオン化による気相中間体の制御と膜特性

    足立元明・藤本敏行・奥山喜久夫・佐藤英紀・安藤敏夫・富岡秀起，化学工学会第３１回秋季大会，化学工学会，1998年09月，山形県・米沢市

  15. 気相法によるチタニア超微粒子の製造に及ぼす原料ガスと操作条件の影響

    島田学・奥山喜久夫・中曽浩一・藤本敏行・瀬戸章文，化学工学会第３１回秋季大会，化学工学会，1998年09月，山形県・米沢市

  16. Effects of Preparation Conditions on the Characteristics of TitaniumDioxide Particles Produced by a CVD Method

    Okuyama, K., M. Shimada, T. Fujimoto, T. Maekawa, K. Nakaso, T. Seto，International Aerosol Conference，Proceedings of 4th International Aerosol Conference，(頁 907-908)，1998年08月，Los Angels，アメリカ合衆国

  17. TEOS/O3系常圧CVDプロセスにおけるSiO2薄膜の成膜過程の評価

    藤本敏行・林忠雄・山田哲・奥山喜久夫・足立元明，化学工学会第６３年会，化学工学会，1998年03月，大阪府・大阪市

  18. TEOS/O3-APCVDプロセスにおけるクラスタ／蒸気と微粒子の同時沈着の評価と制御

    藤本敏行・山田哲・奥山喜久夫・足立元明，化学工学会第３１回秋季大会，化学工学会，1998年03月，山形県・米沢市

  19. A New CVD FilmFormation Process using Ionization of TEOS

    M. Adachi, T. Hayashi, T. Fujimoto, and K. Okuyama，6th Int. Symp. SemiconductorManufacturing ISSM'97，6th Int. Symp. Semiconductor Manufacturing，1997年10月，San Francisco，アメリカ合衆国

  20. Gas-Phase Nucleation in APCVDThin-Film Formation Process UsingTetraethylorthosilicate(TEOS)/O3 System

    Okuyama, K., Fujimoto, T., hayashi, T. and Adachi, M，16th Ann. Meeting AAAR，The American Association for Aerosol Research (AAAR)，1997年10月，Denver, Colorado, USA，アメリカ合衆国

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