学会等発表 - 藤本　敏行

181. Film Formation by a New CVD Process using Ionization of TEOS

     M. Adachi, T. Hayasi, T. Fujimoto, and K. Okuyama，CVD-XIV-EUROCVD11，1997年09月，Paris，フランス共和国

182. 気相化学反応によるナノメーターエアロゾルの生成プロセスの評価

     奥山喜久夫・前川哲也・島田学・藤本敏行・瀬戸章文，化学工学会第３０回秋季大会，化学工学会，1997年09月，福岡県・福岡市

183. 有機シリコン／O3系CVDプロセスにおける微粒子発生の評価

     藤本敏行・林忠雄・奥山喜久夫・足立元明，化学工学会第３０回秋季大会，化学工学会，1997年09月，福岡県・福岡市

184. TEOS/O3系常圧CVD成膜プロセスにおける気相核生成現象の評価

     藤本敏行・奥山喜久夫・林忠雄・足立元明，化学工学会岡山大会，化学工学会，1997年07月，岡山県・岡山市

185. 沿面コロナ放電を用いたイオン化CVD法によるTEOS/O3膜の形成

     足立元明・藤本敏行・林忠雄・奥山喜久夫，化学工学会第６２年会，化学工学会，1997年03月，東京都・小金井市

186. TEOS/O3系常圧CVDプロセスにおける気相中間体の発生と輸送現象の評価

     藤本敏行・林忠雄・奥山喜久夫・足立元明，化学工学会第６２年会，化学工学会，1997年03月，東京都・小金井市

187. Gas-Phase Nucleationan APCVD Film Formation Process using Tetraethylorthosilicate/Ozone System

     M. Adachi, K. Okuyama, and T. Fujimoto，5th World Cong. Chem. Eng.，1996年09月，San Diego，アメリカ合衆国

188. TEOS/O3－APCVD薄膜の形状におよぼすオゾンの影響

     足立元明・奥山喜久夫・藤本敏行，化学工学会第２９回秋季大会，化学工学会，1996年09月，京都府・田辺市

189. TEOS/O3－APCVD反応器におけるオゾンの熱分解による原子状酸素の生成

     藤本敏行・奥山喜久夫・足立元明，化学工学会第２９回秋季大会，化学工学会，1996年09月，京都府・田辺市

190. CVD法で生成した超微粒子の凝集構造および粒径分布に及ぼす焼結の影響

     瀬戸章文・廣田敦史・藤本敏行・島田学・奥山喜久夫，化学工学会第６１年会，化学工学会，1996年04月，愛知県・名古屋市

191. TEOS/O3系常圧CVDプロセスにおける微粒子発生の評価

     奥山喜久夫・藤本敏行・足立元明，化学工学会第６１年会，化学工学会，1996年04月，愛知県・名古屋市

192. イオン化CVD法によるTEOS/O3膜の作成

     足立元明・奥山喜久夫・藤本敏行，化学工学会第２８回秋季大会，化学工学会，1995年09月，北海道・札幌市