Papers - Fujimoto Toshiyuki

21. Production of thin graphite sheets for a high electrical conductivity film by the mechanical delamination of ternary graphite intercalation compounds

    Yamanaka, S., Nishino, T., Fujimoto, T., Kuga, Y.，Carbon，vol.50，(14)，(p.5027 ～ 5033)，2012.11

    

22. 天然黒鉛の雰囲気制御粉砕による高比表面積・高結晶性微粒子の生成とその応用

    山中真也・島　拓也・神田康晴・藤本敏行・空閑良壽，スマートプロセス学会誌，vol.1，(5)，(p.224 ～ 228)，2012.09

    

23. 紫外光反応により発生した硫酸二次粒子の成長

    藤本敏行・山中真也・空閑良壽，エアロゾル研究，vol.27，(1)，(p.81 ～ 89)，2012.03

    

24. 黒鉛微粒子-フェノール樹脂複合材の導電性評価と発熱合板への応用

    平林靖, 中平翔, 山中真也, 藤本敏行, 空閑良壽，J. Soc. Powder Technol., Japan，vol.49，(3)，(p.164 ～ 170)，2012.03

    

25. Potential of Surface-Discharge Microplasma Device on Ion Source for High-Efficiency Electrical Charging of Nanoparticles

    S. Osone, E. Manirakiza, T. Seto, Y. Otani, T. Fujimoto，J. Chem. Eng. Jpn.，vol.45，(1)，(p.21 ～ 27)，2012.01

    

26. 層間剥離法による黒鉛薄片状微粒子の生成と導電性複合樹脂膜への応用

    平林 靖, 西野 巴, 藤原 靖典, 藤本 敏行, 空閑 良壽，粉体工学会誌，vol.47，(10)，(p.684 ～ 691)，2010.10

    

27. 単極荷電装置のコンピュータを援用した設計とナノメーターサイズエアロゾルの荷電率の評価

    藤本敏行、空閑良壽，エアロゾル研究，vol.25，(1)，(p.55 ～ 61)，2010.03

    

28. Characteristics and Hydrogen Desporption Property of Nanostructured Graphite Produced by Grinding in Vaccume Atmospheres

    白髭稔、飯田淳一、藤本敏行、空閑良壽、川合幹夫、片村淳二，粉体工学会誌，vol.42，(3)，(p.185 ～ 191)，2005

    

29. Characteristics of Aerosol Charge Distribution by Surface-doscharge microplasma Aerosol Charger

    S.B. Kwon, T. Fujimoto, Y. Kuga, H. Sakurai, and T. Seto，Aerosol Sci. Technol.，vol.39，(p.987 ～ 1001)，2005

    

30. Modeling of AerosolDynamics by Discrete-Trapezoidal Sectional Model

    藤本敏行、松尾一哉、空閑良壽，エアロゾル研究，vol.20，(1)，(p.44 ～ 53)，2005

    

31. Production of natural graphite particles with high electrical conductivity by grinding in alcoholic vapors

    Y. Kuga, M. Shirahige, T. Fujimoto, and A. Ueda，Carbon，vol.42，(p.289 ～ 300)，2004

    

32. Unipolar Ion Charging and Coagulation during Aerosol Formation by Chemical Reaction

    T. Fujimoto, Y. Kuga, S. E. Pratsinis, and K. Okuyama，Powder Technology，vol.135-136，(p.321 ～ 335)，2003

    

33. New in situ measurement method fornanoparticles formed in a radio frequency plasma-enhanced chemical vapor deposition reactor

    Seol K. S., Tsutatani Y., Fujimoto T., Okada Y., Takeuchi K., and Nagamoto H.，J. Vac. Sci and Technol. B，vol.19，(p.1998 ～ 2000)，2001.05

    

34. Size Distribution Change of Titania Nano-Particle Agglomerates Generated by Gas Phase Reaction. Agglomeration, and Sintering

    K. Nakaso, T. Fujimoto, T. Seto, M. Shimada, K. Okuyama, and M. Lunden，Aerosol Sci.Technol.，vol.35，(5)，(p.929 ～ 947)，2001.05

    

35. Particle Generation and Thin Film Surface Morphology in Tetraethylorthosilicate/Oxygen Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Process

    Fujimoto T., Okuyama K., Shimada M., Fujishige Y., Adachi M., and Matsui I.，J. Appl. Phys.，vol.88，(5)，(p.3047 ～ 3052)，2000.09

    

36. Chemical Reaction Kinetics and Growth Rate of (Ba, Sr) TiO₃ Films by Liquid Source Chemical Vapor Deposition Process

    Fujimoto T., Murakami T., Yamada S., Okuyama K., F. G. Shi，J. Electrochem. Soc.，vol.147，(7)，(p.2581 ～ 2588)，2000.07

    

37. Numerical Simulation of Films Formed by Cluster/Particle Co-Deposition in Atmospheric-Pressure Chemical Vapor Deposition Process Using Organic Silicon Vapors and Ozone Gas

    Adachi M., Fujimoto T., Yoshio Y., and Okuyama K.，Jap. J. Appl. Phys. Pt. 1，vol.39，(6A)，(p.3542 ～ 3548)，2000.06

    

38. Effects of Cluster/Particle Deposition on Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition of SiO2 from four Gaseous Organic Si-containing Precursors and Ozone

    Fujimoto T., Okuyama K., Yamada S., and Adachi M.，J. Appl. Phys.，vol.85，(8)，(p.4196 ～ 4206)，1999.08

    

39. Film Formation by Motion Control of Ionized Precursors in Electric Field

    Adachi M., Fujimoto T., Nakaso K., Okuyama K., F. G. Shi, Sato H., Ando T., and Tomioka H.，Appl. Phys. Lett.，vol.75，(13)，(p.1973 ～ 1975)，1999.06

    

40. ソースガスのイオン化によるCVD成膜装置内における粒子発生の抑制

    足立元明、藤本敏行、中曽浩一、金泰吾、奥山喜久夫，化学工学論文集，vol.25，(6)，(p.878 ～ 883)，1999.06