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武田 圭生 タケダ ケイキ
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研究分野 【 表示 ／ 非表示 】
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ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学） / 電子デバイス、電子機器
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ものづくり技術（機械・電気電子・化学工学） / 電気電子材料工学
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高圧物性科学
出身大学院・研究科等 【 表示 ／ 非表示 】
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室蘭工業大学・大学院
1996年03月，博士前期，工学研究科，電気電子工学専攻，修了，日本国
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室蘭工業大学・大学院
1999年03月，博士後期，工学研究科，生産情報システム工学専攻，修了，日本国
有機金属錯体を利用した電子デバイス材料
圧力を利用して分子間距離を制御する
研究開発の目的
原子・分子間距離を制御して新電子デバイス材料開発材料の性質を理解するために分子間距離を変えてみたいとき、一部を大きな分子に置換することが行われる。圧力を利用すると調べたい材料を構成する分子のまま距離を制御できる。特に有機物や金属錯体は大きな結晶格子を持つので顕著な圧力効果が期待できる。ピコレベルで分子間距離を制御して光学的性質や電気伝導を調査し、新しい電子デバイス材料の開発に利用する。
研究開発の概要
有機物や金属錯体を利用した新しい電子デバイス材料の開発従来は一次元金属錯体の構成分子を置換して分子間距離を変化させていたが、圧力をかけることで分子間距離を変化させることが可能になった。また、一次元金属錯体は分子同士が近づくと色が多彩に変化し、電気抵抗が急激に減少する。この性質を利用すると、色から圧力が分かる圧力インジケータや電気抵抗から圧力を求める高圧力センサーとして利用できる。
研究開発の特徴／利点
| １．研究のポイント | ２．研究の新規性 |
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| ３．従来の技術に比べての優位性 | ４．特許関連の状況 |
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論文 【 表示 ／ 非表示 】
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Large spontaneous Hall effect with flexible domain control in the antiferromagnetic material TaMnP
H. Kotegawa, A. Nakamura, V.T.N. Huyen, Y. Arai, H. Sugawara, J. Hayashi, K. Takeda, C. Tabata, K. Kaneko, K. Kodama, M.-T. Suzuki，Physical Review B，110巻，21号，Article Number:214417，2024年12月
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Large Anomalous Hall Conductivity Derived from an f -Electron Collinear Antiferromagnetic Structure
H. Kotegawa, H. Tanaka, Y. Takeuchi, H. Tou, H. Sugawara, J. Hayashi, K. Takeda，Physical Review Letters，133巻，10号，Article Number:106301，2024年09月
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Intrinsic Anomalous Hall Effect Arising from Antiferromagnetism as Revealed by High-Quality NbMnP
Y. Arai, J. Hayashi, K. Takeda, H. Tou, H. Sugawara, H. Kotegawa，Journal of the Physical Society of Japan，93巻，6号，Article Number:063702，2024年05月
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Large anomalous Hall effect and unusual domain switching in an orthorhombic antiferromagnetic material NbMnP
H. Kotegawa, Y. Kuwata, V. T. N. Huyen, Y. Arai, H. Tou, M. Matsuda, K. Takeda, H. Sugawara and M. Suzuki，npj Quantum Materials，8巻，1号，Article Number:56，2023年12月
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Photoexcited Carrier Transfer in CuInS2 Nanocrystal Assembly by Suppressing Resonant-Energy Transfer
Y. Hamanaka, S. Okuyama, R. Yokoi, T. K., K. Takeda, C. Sekine，ChemPhysChem，24巻，21号，Article Number:e202300029，2023年11月
国際会議Proceedings 【 表示 ／ 非表示 】
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Structural Analysis of CeCoSi under Pressure
A. Dalan, K. Saito, K. Ikeda, H. Tanida, J. Hayashi, K. Takeda, C. Sekine, and Y. Kawamura，Proceedings of the 29th International Conference on Low Temperature Physics (LT29)，38号，Article Number:011085，2023年05月
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Study of Spin-Orbit Interaction in AlxGa1
S. Ishida, A. Fujimoto, K. Oto, K. Takeda, and I. Shibasaki，AIP Conf. Proc.，893巻，(頁 569 ～ 570)，2007年
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Negative Persistent Photoconductivity Effect on WeakAnti-Localization in Hetero-Interface of InSb/GaAs(100)
A. Fujimoto, S. Ishida, K. Takeda, A. Okamoto, and I. Shibasaki，AIP Conf. Proc.，893巻，(頁 567 ～ 568)，2007年
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Spin-Orbit Interactionin InSb Thin Films Grown on GaAs(100) Substrates by MBE: Effect of Hetero-Interface
S. Ishida, K. Takeda, A. Okamoto, I. Shibasaki，AIP Conf. Proc.，772巻，(頁 1287 ～ 1288)，2005年
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Magneto-Transport Properties in AlxGa1-xAsySb1-y/InAs Quantum Wells
S. Ishida, A. Fujimoto, K. Takeda, A. Souma, K. Oto, A. Okamoto and I. Shibasaki，The Institute of Physics Conference Series Number 187，(頁 585 ～ 590)，2005年
研究報告 【 表示 ／ 非表示 】
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CeCoSi の高圧低温下における結晶構造と電子状態
川村幸裕, 池田翔, 林純一, 武田圭生, 関根ちひろ, 松村武, 上床美也, 冨田崇弘, 高橋博樹, 谷田博司，Photon Factory Activity Report，40巻，(頁 47 ～ )，2023年05月
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高圧技術によるカルコパイライトナノ粒子の粒子間隔の精密制御
武田 圭生、林 純一、葛谷 俊博、関根ちひろ，Photon Factory Activity Report，39巻，(頁 158 ～ )，2022年07月
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CeCoSiの室温高圧下粉末X線回折実験
上田諒大, 川村幸裕, 谷田博司, 林純一, 武田圭生, 関根ちひろ，Photon Factory Activity Report，2019年08月
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部分充填スクッテルダイト化合物 LaxRh4Sb12の高圧下における構造安定性
林純一, 中島良介, 佐藤雄也, 秋元大輔, 梶山誉文, 川村幸裕, 武田圭生, 関根ちひろ，Photon Factory Activity Report 2017，2018年
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アルカリ土類を含む As 系充填スクッテルダイト化合物の体積弾性率
川村幸裕,, 林純一, 武田圭生, 関根ちひろ，Photon Factory Activity Report 2017，2018年
学会等発表 【 表示 ／ 非表示 】
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RMnSi(R=Pr, Nd)の温度圧力相図
西山紗恵, 國岡大祐, 林純一, 武田圭生, 関根ちひろ, 高橋博樹, 谷田博司, 川村幸裕，日本物理学会2025年春季大会，日本物理学会，日本物理学会2025年春季大会概要集，2025年03月19日，オンライン開催，日本国
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高圧下におけるベンゾオキサゾール系蛍光増白剤の発光スペクトル
武田圭生, 鎌田恵太, 林純一, 川村幸裕，日本物理学会2025年春季大会，日本物理学会，日本物理学会2025年春季大会概要集，2025年03月19日，オンライン開催，日本国
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高圧下におけるナノ粒子合成法の確立
葛谷 俊博，関根 ちひろ，武田 圭生，濱中 泰，第65回高圧討論会，日本高圧力学会，第65回高圧討論会要旨集，2024年11月14日，盛岡市，日本国
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重い電子系反強磁性体CeMnSiの電気抵抗の圧力依存性
西山 紗恵，美馬 はるか，林 純一，武田 圭生，関根 ちひろ，上床 美也，谷田 博司，川村 幸裕，第65回高圧討論会，日本高圧力学会，第65回高圧討論会要旨集，2024年11月14日，盛岡市，日本国
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圧力誘起自己充填反応を利用したスクッテルダイト系熱電材料CoSb3-xTexの高圧合成と熱電特性
尾崎 蒼空，林 純一，川村 幸裕，武田 圭生，後藤 弘匡，関根 ちひろ，第65回高圧討論会，日本高圧力学会，第65回高圧討論会要旨集，2024年11月14日，盛岡市，日本国
科学研究費助成事業 【 表示 ／ 非表示 】
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圧力印加による量子ドット３次元超格子の創製とドット間協力現象に基づく光機能の開拓
2020年度 ～ 2022年度，基盤研究（C），20K05256
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超高圧技術が開く革新的ナノ粒子合成プロセス
2017年度，基盤研究（Ｃ），16K06810
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超高圧技術が開く革新的ナノ粒子合成プロセス
2016年度 ～ 2018年度，基盤研究（C），16K06810
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超高圧技術が開く革新的ナノ粒子合成プロセス
2016年度，基盤研究（Ｃ），16K06810
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６−６型高圧発生装置を用いた新奇希土類プニクタイドの創製
2015年度，基盤研究（B），23340092
担当授業科目 【 表示 ／ 非表示 】
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電気回路基礎（Aクラス）
2024年度，学部
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電気電子工学実験Ａ（週２回開講）
2024年度，学部
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電気電子工学実験A（週２回開講）
2024年度，学部
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電気回路
2024年度，学部
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電気回路演習
2024年度，学部
公開講座等 【 表示 ／ 非表示 】
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電気電子工学コースオープンラボラトリー
2024年08月03日，室蘭工業大学，室蘭工業大学，オープンキャンパス，講演
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第9回サイエンスフェスタ
2024年07月27日，室蘭工業大学希土類材料研究センター，えみらん DENZAI環境科学館，サイエンススクール，講演
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体験しよう！！未来を変える夢の新材料と不思議な超高圧の世界
2024年07月20日，室蘭工業大学，日本学術振興会，室蘭工業大学，ひらめき☆ときめきサイエンス，講演
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第8回サイエンスフェスタ
2023年07月29日，室蘭工業大学希土類材料研究センター，えみらん DENZAI環境科学館，サイエンススクール，講演
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からくり人形の指南車を作ろう
2023年07月18日，室蘭工業大学，室蘭聾学校，サイエンススクール，講演
学会・研究会の主催等 【 表示 ／ 非表示 】
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第60回高圧討論会
札幌市，委員，日本
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平成29年電気学会 基礎・材料・共通部門大会（Ａ部門大会）
室蘭市，委員，日本
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高圧討論会
室蘭市，委員，日本